광학 위상 배열 기술이란 무엇입니까?

광학 위상 배열 기술은 빔 배열에서 단위 빔의 위상을 제어함으로써 배열 빔 등방면의 재구성 또는 정밀한 조절을 실현할 수 있습니다.시스템의 부피와 질량이 작고 응답 속도가 빠르며 빔 품질이 좋다는 장점이 있습니다.

광학 위상 배열 기술의 작동 원리는 특정 법칙에 따라 배열된 기본 요소의 신호를 적절하게 이동(또는 지연)하여 배열 빔의 편향을 얻는 것입니다.위의 정의에 따르면 광학위상배열 기술에는 빔 방출 배열을 위한 광각 빔 편향 기술과 원거리 표적의 고해상도 이미징을 위한 배열 망원경 간섭 이미징 기술이 포함됩니다.

방출 관점에서 볼 때, 광학 위상 배열은 배열 빔의 전체 편향 또는 위상 오류 보상을 실현하기 위해 배열 전송 빔의 위상을 제어하는 ​​것입니다.광학 위상 배열의 기본 원리는 도 1에 도시되어 있다.1. 그림.1(a)는 비일관성 합성 배열, 즉 "위상 배열" 없이 "배열"만 존재하는 것이다.그림 1 (b) ~ (d)는 광학 위상 배열(즉, 응집성 합성 배열)의 세 가지 다른 작동 상태를 보여줍니다.

비간섭 합성 시스템은 어레이 빔의 위상을 제어하지 않고 어레이 빔의 단순한 전력 중첩만을 수행합니다.광원은 서로 다른 파장을 가진 다중 레이저일 수 있으며 원거리 스폿 크기는 어레이 요소 수, 어레이의 등가 조리개 및 빔 어레이의 듀티비와 관계없이 전송 어레이 장치의 크기에 따라 결정됩니다. 따라서 진정한 의미에서 위상 배열로 간주할 수 없습니다.그러나 비간섭성 합성 시스템은 구조가 간단하고 광원 성능에 대한 요구 사항이 낮으며 출력 전력이 높기 때문에 널리 사용되었습니다.

수신 관점에서 볼 때, 원격 대상의 고해상도 이미징에는 광학 위상 배열이 적용됩니다(그림 2).망원경 어레이, 위상 지연기 어레이, 빔 결합기 및 이미징 장치로 구성됩니다.대상 소스의 복잡한 일관성이 얻어집니다.대상 이미지는 Fanssert-Zernick 정리에 따라 계산됩니다.이 기술을 간섭 이미징 기술이라고 하며 합성 개구 이미징 기술 중 하나입니다.시스템 구조의 관점에서 볼 때 간섭 이미징 시스템과 위상 배열 방출 시스템의 구조는 기본적으로 동일하지만 두 애플리케이션의 광 경로 전송 방향은 반대입니다.