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독보적인 초고속 레이저 1부
초고속 레이저의 독특한 특성 1부: 초고속 레이저의 독특한 성질 초단펄스 지속시간은 장펄스 레이저나 연속파(CW) 레이저와 구별되는 독특한 특성을 부여합니다. 이러한 짧은 펄스를 생성하기 위해서는 넓은 스펙트럼 대역폭이 필요합니다...더 읽어보기 -
AI는 광전자 부품을 레이저 통신에 활용할 수 있도록 합니다.
인공지능은 광전자 부품을 레이저 통신에 활용할 수 있도록 합니다. 광전자 부품 제조 분야에서도 인공지능은 레이저와 같은 광전자 부품의 구조 최적화 설계, 성능 제어 및 관련 정밀 특성 분석 등 다양한 분야에 널리 사용되고 있습니다.더 읽어보기 -
레이저의 편광
레이저의 편광은 다양한 레이저의 공통적인 특성으로, 레이저의 생성 원리에 의해 결정됩니다. 레이저 빔은 레이저 내부의 발광 매질 입자의 유도 복사에 의해 생성됩니다. 유도 복사는 반사되는 성질을 가지고 있습니다...더 읽어보기 -
레이저의 출력 밀도 및 에너지 밀도
레이저의 출력 밀도와 에너지 밀도는 우리 일상생활에서 매우 친숙한 물리량입니다. 우리가 가장 많이 접하는 밀도는 물질의 밀도이며, 공식은 ρ=m/v, 즉 질량을 부피로 나눈 값입니다. 하지만 레이저의 출력 밀도와 에너지 밀도는...더 읽어보기 -
레이저 시스템의 주요 성능 특성 매개변수
레이저 시스템의 주요 성능 특성 매개변수 1. 파장 (단위: nm ~ μm) 레이저 파장은 레이저가 전달하는 전자기파의 파장을 나타냅니다. 다른 종류의 빛과 비교했을 때, 레이저의 중요한 특징은 단색광이라는 점입니다.더 읽어보기 -
광섬유 다발 기술은 청색 반도체 레이저의 출력과 밝기를 향상시킵니다.
광섬유 번들 기술은 청색 반도체 레이저의 출력과 밝기를 향상시킵니다. 레이저 유닛의 동일하거나 유사한 파장을 이용한 빔 형성은 서로 다른 파장의 레이저 빔을 결합하는 기본 원리입니다. 그중에서도 공간 빔 결합은 여러 레이저 빔을 공간적으로 적층하는 기술입니다.더 읽어보기 -
에지 이미터 레이저(EEL) 소개
에지 방출 레이저(EEL) 소개 고출력 반도체 레이저 출력을 얻기 위해 현재 기술은 에지 방출 구조를 이용합니다. 에지 방출 반도체 레이저의 공진기는 반도체 결정의 자연적인 해리면으로 구성되며, ...더 읽어보기 -
고성능 초고속 웨이퍼 레이저 기술
고성능 초고속 웨이퍼 레이저 기술. 고출력 초고속 레이저는 첨단 제조, 정보, 마이크로일렉트로닉스, 바이오의학, 국방 및 군사 분야에 널리 사용되고 있으며, 관련 과학 연구는 국가 과학 기술 혁신을 촉진하는 데 매우 중요합니다.더 읽어보기 -
TW급 아토초 X선 펄스 레이저
TW급 아토초 X선 펄스 레이저는 고출력과 짧은 펄스 지속 시간을 특징으로 하며, 초고속 비선형 분광학 및 X선 회절 이미징 구현에 핵심적인 역할을 합니다. 미국 연구팀은 2단 X선 자유 전자 레이저를 직렬로 연결하여 이러한 특성을 갖는 아토초 X선 펄스 레이저를 개발했습니다.더 읽어보기 -
수직공진 표면 방출형 반도체 레이저(VCSEL) 소개
수직 공진 표면 방출형 반도체 레이저(VCSEL) 소개 수직 외부 공진 표면 방출형 레이저는 1990년대 중반에 기존 반도체 레이저 개발을 괴롭혀 온 핵심 문제, 즉 고출력 레이저 출력을 효율적으로 생성하는 방법을 극복하기 위해 개발되었습니다.더 읽어보기 -
넓은 스펙트럼에서 2차 고조파의 여기
1960년대 2차 비선형 광학 효과가 발견된 이후, 이 현상은 연구자들의 폭넓은 관심을 불러일으켰으며, 현재까지 2차 고조파 및 주파수 효과를 기반으로 극자외선에서 원적외선 대역에 이르는 광범위한 영역에서 다양한 연구가 진행되어 왔습니다.더 읽어보기 -
편광 전기광학 제어는 펨토초 레이저 패터닝과 액정 변조를 통해 구현됩니다.
독일 연구진이 펨토초 레이저 패터닝과 액정 전기광학 변조를 결합하여 광 신호 제어의 새로운 방법을 개발했습니다. 액정 소자를 삽입함으로써…더 읽어보기
