L 밴드 EDFA 앰프 시스템 기술 체계

EDFA는 Erbium 이온 도핑 된 섬유를 게인 매체로 사용하여 펌프 광 하에서 집단 역전을 생성합니다. 신호광의 유도 하에서 자극 된 방사선 증폭을 깨닫습니다.
에르 비움 이온은 3 가지 에너지 수준을 갖는다. 그들은 어떤 빛에 흥분하지 않을 때 가장 낮은 에너지 수준 인 E1에 있습니다. 펌프 광원 레이저에 의해 섬유가 지속적으로 여기 될 때,지면 상태의 입자는 에너지를 얻고 더 높은 에너지 수준으로 전이합니다. E1에서 E3으로의 전이와 같은 입자는 E3의 높은 에너지 수준에서 불안정하기 때문에, 비 방사성 전이 공정에서 준 안정 상태 E2로 빠르게 떨어질 것이다. 이 에너지 수준에서 입자는 비교적 긴 생존 수명을 갖습니다. 펌프 광원의 연속 여기로 인해 E2 에너지 수준에서의 입자 수는 계속 증가하고 E1 에너지 수준의 입자 수가 증가합니다. 이러한 방식으로, 모집단 반전 분포는 에르 비움 도핑 된 섬유에서 실현되며, 광학 증폭 학습 조건이 이용 가능하다.
입력 신호 광자 에너지 E = HF가 E2와 E1의 에너지 수준 차이, E2-E1 = HF의 에너지 수준 차이와 정확히 동일 할 때, 준 안정 상태의 입자는 자극 된 방사선 형태로 접지 상태 E1로 전이 될 것이다. 신호의 방사선 및 입력은 광자와 동일하므로 광자 수를 크게 증가시켜 입력 광 신호가 Erbium- 도핑 된 섬유에서 강한 출력 광 신호가되어 광학 신호의 직접적인 증폭을 실현합니다.

2. 시스템 다이어그램 및 기본 장치 소개
2.1. L 밴드 광섬유 증폭기 시스템의 개략도는 다음과 같습니다.